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帶蒸發CVD系統

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硫化物CVD系統(分體式)

產品型號:H-CVD-1200S

產品品牌:翰軍

接受定制:是

交貨周期:5-15個工作日

上架時間: 2019-02-16

瀏覽次數: 2281次

一、概述

此套系統H-CVD-1200S前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發器,輔助固體源蒸發,后端為雙溫區硫化爐,溫度控制精確,操作簡便。

左端配有法蘭支撐架可將預熱器和硫化爐分開使用。右端可配氣氛微調裝置,可以準確的反應腔體內部的氣體壓力,帶刻度的調

節閥對于做低壓CVD非常實用,重復性好;真空機組裝有真空粉塵過濾器以保護機械式真空泵不被硫粉塵損壞。整套系統可在1200℃

以下的工藝溫度穩定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。

二、設備組成

HTF-1100蒸發器,HTF-1200D雙溫區管式爐,(蒸發器與高溫反應區采用分體式),

 三、主要技術參數

蒸發器

 

型號:HTF-1100

工作溫度:室溫-1000℃

最高溫度:1050℃

最快升溫速率:30℃/min

推薦升溫速率:10℃/min

控溫方式:智能化30段可編程控制

工作電壓:AC220 V

額定功率:1000W

控溫精度:±1℃

加熱元件:電阻絲

加熱區長度(mm):150mm 

雙溫區硫化爐 

型號:HTF-1200D

技術參數:

額定功率(KW):3

額定電壓(V):AC220v  50/60 Hz

最高溫度(℃):1200(1 hour)

持續工作溫度(℃):1100

升溫速率(℃/min):≤50

爐管尺寸(mm):

高純石英管Φ50×1500mm

加熱區長度(mm):150/300mm

恒溫區長度(mm):100/120mm  

控溫方式:模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能

控溫精度(℃):±1

加熱元件:電阻絲

配件

配真空粉塵過濾器,DN25手動蝶閥用于控制爐管內壓力,防腐型數顯真空計,三路混氣系統(可選)