歡迎光臨上海翰軍實驗設備有限公司官網!
您現在的位置:主頁 > CVD氣相沉積系統 > 快速升溫CVD系統/p>
產品型號:HCV-1100R
產品品牌:翰軍
接受定制:是
交貨周期:30工作日
上架時間: 2020-03-02 16:03:12
瀏覽次數: 883次
一、概述:
這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐,2通道氣路系統和低真空系統組成。控制電路選用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。本套系統用于CVD退火,也可以應用于于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
二、主要技術參數
1200加熱爐 |
電壓 |
AC380V 50/60Hz |
功率 |
24KW |
|
加熱區長 |
400mm |
|
最高使用溫度 |
1100℃ |
|
工作溫度 |
≤1000℃ |
|
升溫速率: |
≤600℃/min |
|
溫控系統 |
PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率, 30段可編程控制器, |
|
恒溫精度 |
±5 |
|
石英管 |
Φ50/60/80/100*1400mm |
|
兩路質量流量控制系統 |
最大電壓 |
185~24V/50Hz |
最大輸出功率: |
18W |
|
流量計標準量程 |
300SCCM |
|
工作溫度: |
5~45 oC |
|
工作壓差: |
0.1~0.5 MPa |
|
最大壓力: |
3Mpa |
|
準確度: |
±1.5% FS |
|
真空系統 |
1.采用雙極旋片真空泵,真空度可達5×10-1 Torr不銹鋼充油真空壓力表,良好的抗震性 2.安裝過濾器 |
|
法蘭及支撐 |
304不銹鋼快速水冷法蘭,長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷可調節的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合,4個密封硅膠圈等 |
|
可選配件 |
混氣系統,中、高真空系統,各種剛玉坩堝,石英管,計算機控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環機等。 |